最新10月9日消息，据CNews报道，俄罗斯已完成用于生产130纳米制程光刻机的第三阶段设计验收工作，该阶段验收证书已于2026年8月7日签署。

该130nm分辨率光刻机由“泽列诺格勒纳米技术中心”（Zelenograd Nano Technology Center，ZNTC）与白俄罗斯“普拉纳尔”（Planar）公司合作开发，主要用于将集成电路拓扑图形投影转移到直径200毫米（8英寸）的半导体晶圆上，并在制造超大规模集成电路（VLSI）时进行多重投影复制，设计制程为130纳米。

在项目框架内，ZNTC制造了两台波长为193纳米的准分子激光器原型，同时还制造了光掩模、测试结构、用于在工作波长上测量和控制光刻及像差特性的物镜测试台等，并完成了基础工艺调试。

按计划，ZNTC应在2026年3月交付第三阶段，但实际推迟至2026年8月才交付。目前该装置已完成基础工艺调试。

最新验收证书还指出，这款俄罗斯自研的130nm制程光刻机具有“独特特征”，因为它使用包括自主研发的193纳米准分子激光器在内的光源，以及其他国产零部件和国产半导体材料，达到了所需分辨率。

需要指出的是，ZNTC在2025年初已完成首台分辨率为350纳米的光刻机生产，该设备已移交给Element Group旗下的“行业解决方案”公司。同时，ZNTC还开发了设计规范为150纳米的电子束光刻设备。

根据曝光的文件，该装置的开发由白俄罗斯“普拉纳尔”公司负责（费用为1.496亿卢布）。除装置本身外，该公司还负责机械部件制造（费用为1.95亿卢布）、零件和原型调试（费用超过1亿卢布）。

激光器由“拉萨德”（Lassard）公司开发，费用为5亿卢布。累计支付给“普拉纳尔”和“拉萨德”的费用略超过10亿卢布。

据科瓦廖夫称，ZNTC在项目中负责装置整体开发、测试台和工艺台结构设计、物镜计算，以及工艺建模和开发。

光刻机本身的制造成本估计为5.422亿卢布（约650万美元），两个激光器成本分别为4900万卢布和4600万卢布。

对俄罗斯而言，130纳米分辨率步进式光刻机原型完成研发并通过验收，显然是一项新突破，此前其不具备这类光刻机的生产能力。此前，全球能够生产此类光刻机的企业仅有荷兰ASML、日本佳能和尼康、中国上海微电子。