超 400 层:三星展示业界首款 V10 BV-NAND,存储密度提高约 58%
三星公司今天(8 月 5 日)发布博文,宣布其在 2026 年未来存储与内存大会(FMS)上,概述了面向人工智能基础设施的 3D 内存路线图,重点介绍了 DRAM、NAND 闪存、企业级存储、先进封装和半导体制造方面的最新进展。...
最新 8 月 5 日消息,3D 存储半导体 IP 企业 Neo Semiconductor 在 FMS 2026 上公布了其双晶体管 (2T) SRAM 设计 X-SRAM,宣称可实现现有方案 5 倍的片上缓存容量。

最新了解到,目前的商业化主流 SRAM 由 6 个晶体管构成,这限制了片上缓存的扩展,而大容量高速 SRAM 缓存非常适合推理解码等人工智能工作负载。Neo Semiconductor 称其可将片上 SRAM 容量提升到 GB 级别。

Neo Semiconductor 展示了 4 种不同的 X-SRAM 单元结构:Type B 方案与现有 GAA Nanosheet 尖端逻辑制程直接兼容;Type A / C / D 则各有侧重,需要工艺配合调整。

该企业还展望了堆叠式的 3D X-SRAM,有望实现 20~40 倍于现有设计的 SRAM 容量。

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